玻璃基板：

利用全自動(dòng)等離子清洗設(shè)備，對證料表面進(jìn)行轟擊，可無效來除表面?zhèn)魅疚铮构ぜ砻嬗H水性大大進(jìn)步。清洗后的水滴夾角小于5度，為下講工序的進(jìn)行奠定杰出底子。

陽極表面改性：

用等離子表面處理器技對ITO陽極進(jìn)行表面改性，可無效劣化其表面化教構(gòu)成，大大低降方塊電阻，從而無效進(jìn)步能量轉(zhuǎn)換服從，改進(jìn)器件的光伏機(jī)能。

涂包庇膜前處理：

硅片表面非常光明，會反射得降大量的太陽光。果此，在其上沉積一層反射系數(shù)非常小的氮化硅包庇膜黑白常必要的。經(jīng)過采取等離子設(shè)備等離子體技能，可活化硅片表面，大大進(jìn)步其表面附出力。