等離子清洗機常用的氣體包括氧氣、氫氣、氮氣和氬氣。氧氣:等離子清洗機使用氧氣時,通過電離產生離子體,可對材料表面進行物理轟擊,形成粗糙的表面,同時高活性的氧離子可與斷鍵后的分子鏈發生化學反應,形成活性基團的親水表面,達到表面活化的目的。氫氣:氫氣具有還原性,可以用于去除金屬表面的微氧化層,同時不會損壞表面敏感的有機層。氮氣:氮氣電離形成的等離子體可以與一些分子結構發生關鍵反應,因此它也是一種活性氣體,但與氧氣和氫氣相比,它的粒子相對較重。氬氣:氬氣屬于惰性氣體,等離子清洗使用氬氣時,能夠對材料表面發生物理反應,清潔和粗化表面,且不會對基材產生氧化反應,適用于精密金屬元件處理。具體使用哪種氣體要...

利用等離子體高能量破壞油污等有機大分子分子鍵，然后用氧離子等活性離子進行新的化學反應，生成氣態小分子，例如二氧化碳，水氣等氣態物質被真空泵抽走，從而達到對材料表面分子級別的清洗。

等離子體其中包括原子、分子、離子、電子、活性基團、激發態原子、活化的分子及自由基，這些粒子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應，從而有些化學鍵被打開后結合上氧原子等高活性的物質，使得材料表面親水性得到極大提高，在粘接、bonding、印刷、鍍膜、封裝等工序時讓產品可靠性更高，良品率更好。

通過控制工藝條件，把有機化合物的氣體（CF4、CH4、C2H6等）形成等離子態，使其在材料表面形成一層薄的聚合物涂層，等離子體激活材料表面，產生自由基并引入活性基團，然后用接枝的方法在材料表面形成許多支鏈，形成新的表面層，從而對材料表面進行改性。